§ 21

§ 21. 1. Odt∏uszczanie lub czyszczenie skór zzasto-sowaniem rozpuszczalników organicznych powinnoodbywaç si´ whermetycznie zamkni´tych aparatach,woddzielnych pomieszczeniach, wyposa˝onychwwentylacj´ wywiewnà.2. Niedopuszczalne jest u˝ywanie do odt∏uszczaniaskór benzyny, dwusiarczku w´gla, chloroformu ieteruetylowego.3. Odparowanie rozpuszczalników ze skór odt∏usz-czanych lub czyszczonych przy u˝yciu rozpuszczalni-ków organicznych waparatach,októrych mowawust.1, powinno byç ca∏kowite iwykluczajàce dalszeich parowanie.